浏览量 : 0 下载量: 23 CSCD: 1
  • 导出

  • 分享

  • 收藏

  • 专辑

    • 硅、锰配比对消除高电阻铝锰合金裂纹缺陷的机理探讨

    • 硅、锰配比对消除高电阻铝锰合金裂纹缺陷的机理探讨

    • 1991年第4期 页码:17-19   

      纸质出版日期: 1991

    扫 描 看 全 文

  • [1]刘晖.硅、锰配比对消除高电阻铝锰合金裂纹缺陷的机理探讨[J].特种铸造及有色合金,1991(04):17-19. DOI:
    硅、锰配比对消除高电阻铝锰合金裂纹缺陷的机理探讨[J]. Special Casting & Nonferrous Alloys, 1991,(4):17-19. DOI:
  •  
  •  
文章被引用时,请邮件提醒。
提交

相关文章

暂无数据

相关作者

暂无数据

相关机构

暂无数据
0