研究·合金性能 | 浏览量 : 0 下载量: 1 CSCD: 0
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  • 专辑

    • 脉冲电源调控Cu液内氧化夹杂的分布

    • Pulse Power Regulation of Oxide Inclusion Distribution in Molten Copper

    • 2025年45卷第3期 页码:456-463   

      收稿日期:2024-02-27

      修回日期:2024-03-27

      录用日期:2024-04-19

      纸质出版日期:2025-03-20

    • DOI: 10.15980/j.tzzz.T20240064     

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  • 刘辉,蔡金趸,杨湘杰,等. 脉冲电源调控Cu液内氧化夹杂的分布[J]. 特种铸造及有色合金,2025,45(3):456-464. DOI: 10.15980/j.tzzz.T20240064.
    LIU H,CAI J D,YANG X J,et al. Pulse power regulation of oxide inclusion distribution in molten copper[J]. Special Casting & Nonferrous Alloys,2025,45(3):456-464. DOI: 10.15980/j.tzzz.T20240064.
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